●フォトリソグラフィー

《「フォトリトグラフィー」とも》半導体集積回路などの製造工程で、シリコンのウエハー上にフォトレジストという感光材料を塗布し、レチクル（フォトマスク）とよばれる回路のパターンの原板を重ねて光を照射し、エッチングなどで刻み込む技術。光リソグラフィー。リソグラフィー。

集積回路 ICや液晶ディスプレイなどの製造において，光を用いて微細な加工を施す技術。IC製造の場合では，ガラス・マスクを通して光を照射し，感光性樹脂を塗布した半導体ウェア上に微細な ICパターンを転写する（→エッチング）。大規模集積回路 LSIの微細化を進めるうえで欠かせない技術とされる。光学系の技術改善や，感光性樹脂の転写精度の向上などにより解像度が向上し，今日ではナノメートル（nm。10億分の1m）単位の精度で半導体素子の加工が可能となっている。