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フォトレジスト

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

フォトレジスト
photoresist
感光性耐食被膜のことをいう。金属,半導体などに微細加工を施す際に,写真技術と化学腐食 (エッチング) を用いるフォトエッチングにおいて用いられる。エッチングにより微小部分を取去りたい金属や半導体の表面にフォトレジスト薄膜状に塗布し,これにフォトマスクを当てて紫外線を照射して感光させる。マスクの透明な部分だけ紫外線が透過し,照射された部分は重合が進んで有機溶剤 (現像液) に溶けなくなる。未感光部は溶けるので,フォトマスク上の図形に相当した図形が金属や半導体表面に再現される。紫外線の感光部が現像液に溶ける場合もありこれをポジ型といい,未感光部が溶ける場合をネガ型という。

出典:ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典
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デジタル大辞泉

フォトレジスト(photoresist)
光・紫外線などを光源とするレジストIC回路・LSI回路・プリント配線などの作製に用いられる。光レジスト

出典:小学館
監修:松村明
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編集協力:田中牧郎、曽根脩
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世界大百科事典 第2版

ふぉとれじすと【フォトレジスト】

出典:株式会社平凡社
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精選版 日本国語大辞典

フォト‐レジスト
〘名〙 (photoresist) 薄膜にして光・紫外線などを照射すると、当たった部分だけが構造変化し、耐薬品性の硬膜をつくったり、薬品に溶けやすくなったりする材料。IC回路・LSI回路・プリント配線などの作製に用いられる。

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