@niftyトップ

辞書、事典、用語解説などを検索できる無料サービスです。

光レジスト【ヒカリレジスト】

化学辞典 第2版

光レジスト
ヒカリレジスト
photoresist

エッチングの際に被腐食体表面に選択的に耐食性薄膜層(保護層)を形成する感光性材料で,主成分は高分子と感光剤である.露光によって起こる化学反応により,現像液に対する溶解性がかわることを利用してパターンを形成する.印刷における写真製版,プリント配線,半導体集積回路製造などで用いる,リソグラフィー(微細加工技術)と関連しており,電子線リソグラフィー,X線リソグラフィーに対しては電子線レジスト([別用語参照]電子ビーム記録),X線レジストとよばれる.光レジストは光リソグラフィーに用いられるものをさすが,これらの一般的名称として使われることもある.露光部分が耐食膜として残るネガ型と未露光部が残存するポジ型とがある.前者としてはジアジド化合物環状ゴム系などがあり,後者としてはジアゾナフトキノン-ノボラック樹脂系がある.このほか,露光により酸を発生する酸発生剤と,酸に対する反応性の高い高分子とからなる化学増幅型レジストがあり,これにもポジ型とネガ型がある.これらの方式は酸による触媒反応によって感度を高くできる.レジスト形状は,使用時に塗布する液状レジストのほか,フィルム上に感光層をあらかじめ塗布してラミネートして用いるドライフィルムレジスト(DFR)もある.光レジストとして必要な性質は,被腐食体との接着性にすぐれ,残存膜の耐食性が高く,高感度で,さらに均一な薄膜が得やすく,腐食処理後のはく離が容易なことがあげられる.溶液エッチングではなく,プラズマを利用してドライエッチングで使われる場合には,耐プラズマ性,耐熱性も必要になる.

出典:森北出版「化学辞典(第2版)」
東京工業大学名誉教授理博 吉村 壽次(編集代表)
信州大学元教授理博 梅本 喜三郎(編集)
東京大学名誉教授理博 大内 昭(編集)
東京大学名誉教授工博 奥居 徳昌(編集)
東京工業大学名誉教授理博 海津 洋行(編集)
東京工業大学元教授学術博 梶 雅範(編集)
東京大学名誉教授理博 小林 啓二(編集)
東京工業大学名誉教授 工博佐藤 伸(編集)
東京大学名誉教授理博 西川 勝(編集)
東京大学名誉教授理博 野村 祐次郎(編集)
東京工業大学名誉教授理博 橋本 弘信(編集)
東京工業大学教授理博 広瀬 茂久(編集)
東京工業大学名誉教授工博 丸山 俊夫(編集)
東京工業大学名誉教授工博 八嶋 建明(編集)
東京工業大学名誉教授理博 脇原 將孝(編集)

Copyright © MORIKITA PUBLISHING Co., Ltd. All rights reserved.
それぞれの項目は執筆時点での最新のもので、常に最新の内容であることを保証するものではありません。

デジタル大辞泉

ひかり‐レジスト【光レジスト】

出典:小学館
監修:松村明
編集委員:池上秋彦、金田弘、杉崎一雄、鈴木丹士郎、中嶋尚、林巨樹、飛田良文
編集協力:田中牧郎、曽根脩
(C)Shogakukan Inc.
それぞれの用語は執筆時点での最新のもので、常に最新の内容であることを保証するものではありません。

光レジスト」の用語解説はコトバンクが提供しています。

光レジストの関連情報

他サービスで検索

(C)The Asahi Shimbun Company /VOYAGE MARKETING, Inc. All rights reserved.
No reproduction or republication without written permission.

アット・ニフティトップページへ アット・ニフティ会員に登録

ウェブサイトの利用について | 個人情報保護ポリシー
©NIFTY Corporation