@niftyトップ

辞書、事典、用語解説などを検索できる無料サービスです。

化学増幅型レジスト【カガクゾウフクガタレジスト】

化学辞典 第2版

化学増幅型レジスト
カガクゾウフクガタレジスト
chemically amplified photoresist

電子部品の微細加工などに用いられる写真平版技術のうち,光照射により起こる単純な化学反応が後続反応を促進することにより溶解性が変化し,その結果パターン形成が可能となるレジスト技術.一般的には,ヒドロキシ基など親水性官能基を保護した高分子と,光により強酸を発生する光酸発生剤を混合して使用する.高分子そのものには感光性は必要なく,光照射により発生した酸が親水性官能基の脱保護反応を促進するため,光の当たった部分の溶解性が向上し,ポジ型パターンが形成される.光酸発生剤はパターン形成後の後加熱工程で除去される.高分子材料としてヒドロキシポリスチレン誘導体,フェノール樹脂など,保護基としてt-ブトキシカルボニル基,アセタール基など,光発生剤としてオニウム塩型化合物(たとえばトリフェニルスルホニウム塩)を用いた化学増幅型レジストがすでに実用化されている.微細化をより進めていくためには,照射光の波長を短くしていく必要があり,より短波長の光に対応できるレジスト材料の開発が継続的に行われている.

出典:森北出版「化学辞典(第2版)」
東京工業大学名誉教授理博 吉村 壽次(編集代表)
信州大学元教授理博 梅本 喜三郎(編集)
東京大学名誉教授理博 大内 昭(編集)
東京大学名誉教授工博 奥居 徳昌(編集)
東京工業大学名誉教授理博 海津 洋行(編集)
東京工業大学元教授学術博 梶 雅範(編集)
東京大学名誉教授理博 小林 啓二(編集)
東京工業大学名誉教授 工博佐藤 伸(編集)
東京大学名誉教授理博 西川 勝(編集)
東京大学名誉教授理博 野村 祐次郎(編集)
東京工業大学名誉教授理博 橋本 弘信(編集)
東京工業大学教授理博 広瀬 茂久(編集)
東京工業大学名誉教授工博 丸山 俊夫(編集)
東京工業大学名誉教授工博 八嶋 建明(編集)
東京工業大学名誉教授理博 脇原 將孝(編集)

Copyright © MORIKITA PUBLISHING Co., Ltd. All rights reserved.
それぞれの項目は執筆時点での最新のもので、常に最新の内容であることを保証するものではありません。

化学増幅型レジスト」の用語解説はコトバンクが提供しています。

化学増幅型レジストの関連情報

他サービスで検索

(C)The Asahi Shimbun Company /VOYAGE MARKETING, Inc. All rights reserved.
No reproduction or republication without written permission.

アット・ニフティトップページへ アット・ニフティ会員に登録

ウェブサイトの利用について | 個人情報保護ポリシー
©NIFTY Corporation